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本仪器采用非接触、光学相移干涉测量方法，测量时不损伤工作表面，能快速测得各种工作表面微观形貌的立体图形，并分析计算出测量结果。适用于测量各种量块、光学零件表面的粗糙度；标尺、度盘的刻线深度；光栅槽形结构；镀层厚度和镀层边界处的结构形貌；磁（光）盘、磁头表面结构测量；硅片表面粗糙度及图形结构测量等。仪器测量精度高，重复性好，具有非接触和三维测量的特点，并采用计算机控制和快速分析、计算测量结果。本仪器适用于各级测量、计算研究单位，工矿企业计量室，精密加工车间，也适用于高等院校和科学研究单位。
技术参数
表面微观不平深度测量范围：1000nm~1nm
测量的重复性：δRa≤0.5nm
测量精度：8nm
物镜倍率：40×
数值孔径：0.65
仪器视场：目视φ0.25mm；摄像0.13×0.13mm
仪器放大倍数：目视500×；摄像（计算机屏幕观察）：2500×
接收器测量阵列：1000×1000
像数尺寸：5.2×5.2μm
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咨询热线：
021-65730171
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|  | | | WGL | | 评定参数 | | | 测量范围 | | | 触针位移 | | | 分辨率 | | | 显示方式 | | | 打印机形式 | | | 仪器总误差 | | | 取样长度 | | | 测量长度 | | | 测量速度 | | | 仪器外接电源 | | | 仪器外形 | | | 仪器重量 | | | 备注 | | | 产品介绍 | 本仪器采用非接触、光学相移干涉测量方法，测量时不损伤工作表面，能快速测得各种工作表面微观形貌的立体图形，并分析计算出测量结果。适用于测量各种量块、光学零件表面的粗糙度；标尺、度盘的刻线深度；光栅槽形结构；镀层厚度和镀层边界处的结构形貌；磁（光）盘、磁头表面结构测量；硅片表面粗糙度及图形结构测量等。仪器测量精度高，重复性好，具有非接触和三维测量的特点，并采用计算机控制和快速分析、计算测量结果。本仪器适用于各级测量、计算研究单位，工矿企业计量室，精密加工车间，也适用于高等院校和科学研究单位。
技术参数
表面微观不平深度测量范围：1000nm~1nm
测量的重复性：δRa≤0.5nm
测量精度：8nm
物镜倍率：40×
数值孔径：0.65
仪器视场：目视φ0.25mm；摄像0.13×0.13mm
仪器放大倍数：目视500×；摄像（计算机屏幕观察）：2500×
接收器测量阵列：1000×1000
像数尺寸：5.2×5.2μm
| | 产地 | China | | |
或电话：
021-65730171 |
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